光刻机NA指的是数值孔径。
在光学和芯片制造领域，NA是物镜和聚光器的主要参数，一般光刻机设备都会明确标注该指标的数值。在光源波长不变的情况下，NA的大小直接决定和光刻机的实际分辨率，也等于决定了光刻机能够达到的最高的工艺节点。
High-
NAEUV是指下一代光刻设备，与现有的EUV光刻设备相比，可以雕刻出更精细的电路，其被认为是一个改变游戏规则的设备，将决定3纳米以下代工市场技术竞赛的赢家。
1.光刻机为啥造不出来是因为太精密。
2.一个光刻机上集成了许多项高新技术和上万个精密零件。
3.越是尖端精密的技术其实难度越高。以前的原子弹只要原理知道，其它的零件技术含量不高，所以能搞出来。但光刻机不同，它的一些核心原部件可能因为材料和工艺的问题我们制造不出来，所以我们造不了。而材料和工艺是非常机密和耗时间的，可能还需要一段相当长时间。