光刻机是在1822年由法国人尼埃普斯发明的。最初，尼埃普斯发现了一种能够刻在油纸上的印痕，这种印痕在出现在玻璃片上后，经过一段时间的暴晒，透光的部分会变得很硬，而不透光的部分则可以用松香和植物油将其洗掉。虽然光刻机在早期的功能相对简单，使用的材料也比较粗糙，但它为后来的集成电路制造奠定了重要基础。
光刻机是半导体行业中的关键设备，它的利润取决于多种因素，如市场需求、技术水平、竞争环境等。根据市场研究机构盘古智库的数据，在2018年，全球光刻机市场规模为270亿美元，同比增长16.2%。其中，高端光刻机的价格超过2000万美元，利润较大，但相应的市场份额比较小。一些中低端光刻机的价格在500万美元以内，市场份额较大，但利润相对较低。综合考虑，光刻机的利润多数在数百万美元以上，具体数字取决于产品型号、客户需求等因素。