1）混床再生前先进行反洗，采用10m/h流速，反洗控制时间10—15分钟；
2）静止待树脂层分层；
3）放水至水位在交换器内树脂层面上约10cm处；
4）由上部进碱管进碱，流速4m/h，碱液浓度4%，进碱时间大于15分钟；在此同时，由交换器下部进酸管进水，水流流经阳树脂层后，与废碱液一起由阳、阴树脂层分界面处的中间排液管排出；
5）按同样流程进行阴树脂的置换，流速4m/h，时间大于15分钟；
6）阴树脂进行正洗，流速15m/h，正洗水量按10m3水/1 m3树脂控制，洗至排水的酚酞碱度低于0.5mmol/L以下；
7）由下部进酸管进酸再生阳树脂，流速4m/h，酸液浓度5%，进酸时间大于15分钟；在此同时，应保持上部进碱管继续进水；水流流经阴树脂层后，与废酸液一起由阳、阴树脂层分界面处的排液管排出；
8）按同样流程进行阳树脂的置换及清洗，流速4m/h，时间大于15分钟；
9）阳树脂进行清洗，流速10m/h，由中间排液管排水，洗至排水酸度低于0.5mmol/L以下；
10）交换器树脂进行整体正洗，由交换器顶部进水，由交换器正洗排水阀排水，流速15m/h，洗至排水的电导率低于1.5μs/cm以下；
11）放水至交换器水位在树脂层面上约10cm；
12）通入压缩空气进行树脂的混合，压缩空气压力1—1.5表压，时间1—5分钟；在树脂混合后，必需有足够大的排水速度，迫使树脂迅速降落，避免树脂重新分离。树脂下降时，采用顶部进水，可加速其沉降；
13）混合后的树脂层进行正洗，流速10—20m/h，洗至排水合格，即可投运制水。
可能有以下几点：
除硅系统不完善 。由于RO为物理除盐，所以一级混床进水中含有s04^2-、Cl-、HCO3-、HSiO3-等所有阴离子，经过混床阴树脂的交换后，进入二级混床的主要是HCO3-、HSiO3-两种阴离子，经测定其中HSiO3-含量较高，这样在终点到达时，失效的二级混床阴树脂中，RHSiO3-比例高达75%～85%，这时，常规的再生方法已无法彻底去除硅酸，所以再次投运时会导致混床出水SiO2含量超标，这种现象称为"硅污染"。
再生程序或操作有误 。可以核实或商讨再生程序及操作。
树脂被污染或氧化，失去交换能力 。可以对树脂进行救护处理，若恢复不了，则只能更换。
检测仪表有问题 。可以校正仪表，若有多的仪表，也可以换另一个进行检测。