光刻机是在1822年由法国人尼埃普斯发明的。最初，尼埃普斯发现了一种能够刻在油纸上的印痕，这种印痕在出现在玻璃片上后，经过一段时间的暴晒，透光的部分会变得很硬，而不透光的部分则可以用松香和植物油将其洗掉。虽然光刻机在早期的功能相对简单，使用的材料也比较粗糙，但它为后来的集成电路制造奠定了重要基础。
美国、日本、荷兰作为世界上仅有的三个能够生产高端光刻机的国家，光刻机技术已经给他们带来了无数收益。
其中获益最多的就是荷兰，荷兰人是世界上最早发现光刻机技术潜力的国家之一，他们在上个世界就聘请了无数专家对光刻机技术进行研究，研究的过程虽然坎坷万分，付出了不少的时间与金钱，但是最后的结果就是荷兰成为世界上光刻机技术最为发达的国家，在近期，他们可能就要制作出来5纳米级的芯片了。