中国在光刻机领域也有不少企业，比如中微公司、微创光电、九洲电子等，但目前仍没有企业能够生产13.5纳米波长的EUV光刻机。不过，中国在2018年完成了一台采用193纳米光源的ArF光刻机，其分辨率达到了22纳米，可以用于制造22纳米及以上的芯片。这台光刻机由中微公司、上海微电子装备和中国电子科技集团等企业联合研制，被认为是中国半导体产业发展的一个重要里程碑。
综上所述，中国最先进的光刻机是22纳米，尽管中国在EUV光刻机方面已经取得了一定进展，但其量产和商业化进程仍然较为缓慢，未来随着中国技术的高速发展，相信中国很快也能生产7纳米的光刻
1.DHA藻油含量要求比较：中国同比美国，欧盟，澳大利亚新西兰等按照最大的35%作为最低限度值；
2.行业标准里明确规定了EPA应该小于3%，而可以看到其他的国家没有相应的要求；
3.重金属等管控国内均处于较高的标准且要求的项目更多。
国产fog和原装屏最大的不同在于质量和性能方面的差异。国产fog通常采用较为廉价的材料和较低的生产标准，造成了屏幕显示出现色彩不真实、亮度不均匀、视角狭窄等问题；而原装屏采用的都是高质量的材料，生产过程更加严格，保证了屏幕的高度稳定性、颜色准确性和观看体验。此外，国产fog的维修和保养成本也通常比原装屏高，长期来看可能导致效率和使用成本的提高。