在移动设备中，处理器的制造工艺是指用于制造芯片的微细电子元件的尺寸。Nm代表纳米，即十亿分之一米。因此，3Nm和4Nm工艺之间的主要区别是微细电子元件的尺寸。

1. 3Nm工艺：3Nm工艺意味着处理器上的微细电子元件尺寸为3纳米。这意味着微电子元件比4纳米工艺更小。相对于较大的尺寸，3纳米工艺可以提供更高的集成度和更高的性能。它可以在相同的芯片尺寸下容纳更多的晶体管，从而提供更强大的计算和图形处理能力。

2. 4Nm工艺：4Nm工艺意味着处理器上的微细电子元件尺寸为4纳米。尽管比3纳米工艺略大，但4纳米工艺仍然比过去的处理器工艺更细。它提供了更高的能效和性能，相对于更早期的工艺，它可以在相同的功耗下提供更多的计算能力和较低的发热量。

总体而言，较小的工艺尺寸通常意味着更高的性能、更高的能效和更低的功耗。更小的尺寸可以容纳更多的晶体管，并提供更高的集成度。但是，工艺的选择还受到工艺的成本、可靠性和可制造性等方面的考虑。因此，不仅仅是工艺尺寸越小就越好，还需要综合考虑其他因素。